Có cách nào để kết hợp trình trích xuất mờ (hoặc SS+ Ext) với mô hình học sâu hiện đại không?

Gần đây tôi đã xem xét xác thực sinh trắc học với mô hình học sâu và tôi nhận thấy, trong mật mã, trình trích xuất mờ, FE (hoặc bản phác thảo an toàn, SS, cộng với trình trích xuất mạnh) đã giải quyết vấn đề này đủ tốt dựa trên mã sửa lỗi, có nghiên cứu nào không từ thời điểm này để kết hợp chúng? Đối với mô hình học sâu, điều tự nhiên là cung cấp một đại diện tốt cho đối tượng sinh trắc học đầu vào (ví dụ: hình ảnh khuôn mặt, hình ảnh mống mắt, đối tượng dấu vân tay), có thể được sử dụng để tạo khóa riêng (r) trực tiếp. Điều đó có nghĩa là phần giải mã (sửa lỗi) trong FE có thể được thay thế bằng mô hình học sâu?
Hoặc có cách nào để đào tạo một mô hình học sâu từ điểm của LWE